掃描電鏡是介于光學顯微鏡和透射電鏡之間的一種微觀形貌設備，它不同于一般的電子顯微鏡，可以用英文字母SEM來表示。可用SEM掃描電鏡對樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。作為一種觀察測量儀器，免不了會受其他因素影響測量結果，下面我們針對這方面來介紹一下。

影響掃描電鏡觀測結果的幾大要數：

一、先是分辨率，影響SEM掃描電鏡的分辨率的主要因素又有以下三點：

1、入射電子束束斑直徑:為掃描電鏡分辨本領的J限。一般，熱陰極電子槍的小束斑直徑可縮小到6nm，場發射電子槍可使束斑直徑小于3nm。

2、入射電子束在樣品中的擴展效應:擴散程度取決于入射束電子能量和樣品原子序數的高低。入射束能量越高，樣品原子序數越小，則電子束作用體積越大，產生信號的區域隨電子束的擴散而增大，從而降低了分辨率.

    3、成像方式及所用的調制信號:當以二次電子為調制信號時，由于其能量低(小于50eV)，平均自由程短(10~100nm左右)，只有在表層50~100nm的深度范圍內的二次電子才能逸出樣品表面，發生散射次數很有限，基本未向側向擴展，因此，二次電子像分辨率約等于束斑直徑。當以背散射電子為調制信號時，由于背散射電子能量比較高，穿透能力強，可從樣品中較深的區域逸出(約為有效作用深度的30%左右)。在此深度范圍，入射電子已有了相當寬的側向擴展，所以背散射電子像分辨率要比二次電子像低，一般在500~2000nm左右。如果以吸收電子、X射線、陰極熒光、束感生電導或電位等作為調制信號的其他操作方式，由于信號來自整個電子束散射區域，所得掃描像的分辨率都比較低，一般在l000nm或l0000nm以上不等。

    二、放大倍數

    SEM掃描電鏡的放大倍數可表示為M=Ac/As式中，Ac-熒光屏上圖像的邊長;As-電子束在樣品上的掃描振幅。一般地，Ac是固定的(通常為100mm)，則可通過改變As來改變放大倍數。目前，大多數商品掃描電鏡放大倍數為20~20,000倍，介于光學顯微鏡和透射電鏡之間，即SEM掃描電鏡彌補了光學顯微鏡和透射電鏡放大倍數的空擋。

    三、襯度

    包括:表面形貌襯度和原子序數襯度。表面形貌襯度由試樣表面的不平整性引起。原子序數襯度指掃描電子束入射試祥時產生的背散射電子、吸收電子、X射線，對微區內原子序數的差異相當敏感。原子序數越大，圖像越亮。二次電子受原子序數的影響較小。高分子中各組分之間的平均原子序數差別不大;所以只有-些特殊的高分子多相體系才能利用這種襯度成像。

    四、景深

    景深是指焦點前后的一個距離范圍，該范圍內所有物點所成的圖像符合分辨率要求，可以成清晰的圖像;也即，景深是可以被看清的距離范圍。掃描電鏡的景深比透射電子顯微鏡大10倍，比光學顯微鏡大幾百倍。由于圖像景深大，所得掃描電子像富有立體感。電子束的景深取決于臨界分辨本領d0和電子束入射半角αc。其中，臨界分辨本領與放大倍數有關，因人眼的分辨本領約為0.2mm,放大后，要使人感覺物像清晰，要使電子束的分辨率高于臨界分辨率d0:電子束的入射角可通過改變光闌尺寸和工作距離來調整，用小尺寸的光闌和大的工作距離可獲得小的入射電子角。